Intel представила новый техпроцесс SuperFin: 10 нм, но почти как 7 нм

В рамках прошедшего мероприятия Intel Architecture Day 2020 компания Intel представила новую версию технологического процесса с 10-нм нормами, получившую название SuperFin. Как обещают разработчики, этот техпроцесс позволяет компании качественно улучшить параметры 10-нм полупроводниковых устройств. Утверждается, что SuperFin — это самый удачный в истории Intel опыт оптимизации имеющегося техпроцесса, эффект от которого можно сравнивать с настоящим переходом к более «тонким» нормам. Понятно, что за этими бравурными заявлениями кроется некоторая доля саморекламы, призванная скрыть неспособность Intel в ближайшее время перейти к настоящему 7-нм техпроцессу, который был отложен на 2022 или даже 2023 год. Тем не менее, новый техпроцесс 10 нм SuperFin позволяет улучшить производительность транзисторов на 15-20 % относительно базового 10-нм техпроцесса, применяемого при изготовлении процессоров семейства Ice Lake. И такой прогресс сравним с эффектом, достигнутым четырёхкратным улучшением 14-нм техпроцесса от первых сделанных по этой технологии процессоров Broadwell вплоть до наиболее современных Cooper Lake (то есть до 14++++ нм).
Обновлено: 13.08.2020 — 16:00